R116(六氟乙烷,C2F6)可用于一种具多功能的蚀刻技术,常见于半导体之生产。它可用于金属硅化物及金属氧化物并相对其金属基质的选择性蚀刻。叧外,它亦用于蚀刻硅上的二氧化硅。R116可与R23(三氟甲烷)一起用于配置制冷剂R508A(R116占61%)及R508B(R116占54%)。
R116制冷剂参数
名称:R116、FC-116 | 中文名称:六氟乙烷,电子级氟碳,全氟乙烷,氟里昂116 |
英文全称:hexafluoroethane | 化学分子式:CF3CF3、C2F6 |
分子量:138 | 标准沸点:-78℃ |
临界温度:20℃ | 临界压力:3MPa(绝压) |
临界密度:0.613g/cm3 | CAS编号:76-16-4 |